录机之类的。”
辛梦真笑着解释道:
“光刻机的功能,就是把电路图案晒到硅片上,就像老式胶片相机曝光,后续再用化学腐蚀做出立体电路,不过它的精度,是头发丝的千分之一,微小到像在米粒上刻完整本《红楼梦》。
“目前的主流光刻机分为干式光刻和浸没式光刻,光源都是氟化?(ArF)激光,区别在于镜头和硅片之间的介质,一个是空气,一个是水。193nm波长的深紫外光在以空气为介质时,做到65nm芯片就已经看不清图案,但
台湾的林本坚博士02年提出了浸没式方案,用超纯水为介质,让深紫外光的波长在水中变短,等效134nm,用水对光的折射率救活了193nm光刻机。
她这样解释,让投资人们都意识到了难度。
讲到此时,熊晓鸽悠悠感叹道:“03年时,我参加过中国半导体设备供应链闭门会议,跟ASML中国区高管深度交流光刻机技术瓶颈与国产化路径,我们还一起去调研了中芯国际,ASML的人告诉我,一台机器里90%的部件
中国造不出来,我第一次意识到光刻机比原子弹还难造...”
说到这里,他又有些疑问:“我们去年还促成了中微半导体和美国刻蚀设备巨头泛林的一些交叉专利许可,那时候我和中微的人也聊到过光刻机,他们也说光刻机比他们搞的刻蚀机难很多倍,听起来你们居然想做光刻机整
机?是干式还是浸没式?”
此时,中芯国际的投资者朱啸虎连连摇头:
“浸没式?不可能吧?听说尼康的浸没式都不成熟,还不如买ASML的干式,ASML的浸没式...更是买不到,连中芯国际都只能...”
他质疑了一句,但话也没说完,中芯国际偷偷买二手转运浸没式的事情,还是不要说得这么明显为好。
这年头要出高价买机器,还没这么难。
不过这个获取路径,也正说明了ASML的技术优势和浸没式光刻机的难度。
辛梦真也不得不承认:
“是不可能,直接做浸没式等于自杀。”
“浸没式的专利已经被ASML和尼康布下天罗地网,水浸折射专利、浸液控制系统专利、防污染镜头涂层专利,都是新专利,我算过,如

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