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第三百九十八章 DCT(第5/8页)

果要做浸没式,每台设备要向两家支付专利费300万美元,占总成本的40%。
“还有供应链,蔡司1.35NA镜头,ASML纳米级浸液头、日本荏原的超纯水循环系统都是垄断状态。
“我们只能从干式做起,收购日本二手光刻机进行逆向开发,这里面很多专利已经过期了,属于半公开状态,另外0.93NA镜头国内已经有基础,我们可以联合国内公司进行研发,干式光刻机的组装调试可以培养基础光学和
机械团队,为浸没式的研发做储备。”
这都是她这些天好不容易搜集到的资料。
光搜集到这些资料,她都动用了家里不少关系才向一些大厂打听到。
半导体设备这个行业真的是非常的封闭,越了解,就越深刻地感觉到难度,这些天她了解光刻机原理都花了很多时间,所以才想转半导体专业。
她唯一的信心来源是陈学兵告诉她,可以收购。
今年把人才基础培养好,引入资本,明年有美元,也有机会,香港讲英文,很多国际人才也愿意来,具备起步的天然优势。
在一旁观察的陈学兵看着大家都在谓难,心里也在苦笑。
一帮人讲来讲,讲的都还是DUV。
还没人提到EUV呢。
他只能点了点桌子,说道:
“我们之所以选择进入这个行业,就是因为半导体的市场越来越大了。
“最近,美国Cymer还开发出了一种激光等离子体光源,波长只有13.5纳米,但光源形成的条件非常苛刻,并且介质必须为真空,遇到空气都会被吸收。
“这样的设备,光源制造、真空环境、镜片、光刻胶、掩膜版,整个链路的核心子系统都必须重做,芯片制程还有很长的路要走,未来其实是很空荡的。
“换言之,机会也很多,只要把握到任何一个子系统的关键性机会,企业的价值都会发生翻天覆地的变化。”
今天的场合,对一个新企业来说相当于一场路演,路演的本质就是画饼。
他不想这些投资人回去以后调查发现DUV光刻机已经很难,前面还有更难的EUV,从而彻底失去信心。
他要让投资人们意识到:EUV的难,是天堑,也是机会。

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