你给了什么条件?”
“加价10%,预付30%。”
“准备不足。”梁孟松干脆下了结论:“知道这台机器的年产量吗?不超过八台,这八台,英特尔、台积电、三星、东芝都在等,就你们给的条件,人家凭什么优先给你?真想让ASML给你开绿灯,必须以溢价15%-20%的价
格,全款预付。甚至我建议以长期供货协议锁定未来3年的产能配额,以溢价20%的价格,预订ASML2008-2010年的新增产能,这样才能从劣后级客户变成优先级。”
溢价20%,那每台成本接近5000万美元了。
而且要预付。
这个条件是有点夸张,但跟陈学兵算是不谋而合,也没太吓着他。
他确实打算利用VEU的窗口期多点货。
不过....
“你要这么多台光刻机,能用得上?”陈学兵有些疑惑,“一台XT1900足够供给半个12英寸厂的产能了,我已经算是谨慎,又让中芯抢了两台,连备用都考虑上了。”
“那是生产端需要的量,不是科研端需要的量。”梁孟松分析道:
“要做科研追赶,必须多线进行,分四个组。
“65nm提升良率只需要利用现有干式光刻机。
“45nm预研要分配一台最新的193,28nm需要两台,分别用于HKMG栅极工艺验证,多重曝光图形拆分测试,良率优化实验。
“至于FinFET工艺,必须协同作业,最低保障要三台并行,核心层五重曝光,而且组合产能会非常低,理想情况下不到单次曝光产能的17%,想用现有的机器追赶先进制程,就必须承受低产出,而要达到合格产出,就必须在
设备上加量。
“所以,这只是研发所需的光刻机,真正要达到突破20纳米下的量产,以目前的光刻机能力,三台远远不够,以后还要加量,而且每次至少加一组,一组三台。”
陈学兵算是直观体会到了多重曝光的成本。
光是光刻机,就要投入五倍多的量。
不过梁孟松预算过程中透露出的东西更令他震惊。
“17%?这么精确?而且...五重曝光,你已经知道怎么做

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